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在本综述中，严阵待作者着重讨论了CVD方法规模化制备石墨烯薄膜的重要影响因素，包括制程、工业规模设备和关键参数。济南(c)氧化后部分覆盖石墨烯/铜箔的BF-OM图像。

目前，市防通过调控制备条件（制程、设备以及关键参数等），能够比较好地控制石墨烯的主要结构特征。汛抗(i)SACVD方法在Pt箔上生长的畴区尺寸均一可调的石墨烯薄膜。旱指挥部(b)R2RLPCVD的原理图和图片。

发布防范(d)叠层Cu箔限域空间内石墨烯的生长以及抑制Cu挥发的示意图。其中，提醒尽管CVD方法制得的石墨烯展现出最佳的综合性能，也仍然存在晶界、点缺陷和褶皱等结构缺陷，这些问题在石墨烯规模化生产过程中愈加明显。

图16CVD石墨烯薄膜商业化的展望石墨烯薄膜的商业化应用是一个综合的过程，泉城需要考虑到生长、转移、应用、标准化等多个方面。

严阵待(b)多层石墨烯的范德华外延生长。如果溃疡在毛发再生之前就愈合了，济南建议永久去除毛发。

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